12月18日，據(jù)路透社獨(dú)家報(bào)道，中國(guó)科學(xué)家在深圳一處高度戒備的實(shí)驗(yàn)室內(nèi)成功打造出一臺(tái)國(guó)產(chǎn)極紫外光刻機(jī)（EUV）原型機(jī)，于2025年年初完成，目前正處于測(cè)試階段。該設(shè)備幾乎占據(jù)了整個(gè)工廠車間面積，是中國(guó)半導(dǎo)體自主研發(fā)路線上的重要里程碑。

EUV光刻機(jī)是制造先進(jìn)芯片的核心裝備，能夠利用極紫外光刻蝕硅片上極細(xì)電路，是驅(qū)動(dòng)人工智能、5G智能終端和未來(lái)軍事技術(shù)的關(guān)鍵基礎(chǔ)設(shè)施。目前全球成熟EUV技術(shù)被荷蘭ASML壟斷，其機(jī)器售價(jià)高達(dá)數(shù)億美元。

路透援引兩名知情人士消息稱，這一國(guó)產(chǎn)原型機(jī)由一支包括前ASML工程師在內(nèi)的團(tuán)隊(duì)研發(fā)，他們通過逆向工程方式參考并仿制ASML的EUV技術(shù)。該原型機(jī)已成功產(chǎn)生極紫外光，但尚未能夠制造出可用的芯片產(chǎn)品，這一關(guān)鍵能力仍在攻關(guān)當(dāng)中。

報(bào)道稱，中國(guó)已將芯片自主列為國(guó)家戰(zhàn)略重點(diǎn)，目標(biāo)是在2028年利用這套原型機(jī)實(shí)現(xiàn)芯片產(chǎn)出，但項(xiàng)目?jī)?nèi)外人士認(rèn)為更現(xiàn)實(shí)的時(shí)間點(diǎn)可能落在2030年。盡管技術(shù)距離西方先進(jìn)設(shè)備仍有差距，尤其是在高精密光學(xué)系統(tǒng)上存在明顯不足，但這一原型機(jī)的完成表明中國(guó)在突破技術(shù)封鎖方面取得了實(shí)質(zhì)進(jìn)展。

此外，中國(guó)的這一研發(fā)行動(dòng)是在美國(guó)及其盟友長(zhǎng)期對(duì)中國(guó)實(shí)施出口管制背景下進(jìn)行的。美國(guó)政府多年來(lái)試圖限制先進(jìn)光刻設(shè)備及相關(guān)技術(shù)流入中國(guó)，以遏制中國(guó)在AI芯片及高端制造領(lǐng)域的發(fā)展。路透指出，這一原型機(jī)的出現(xiàn)可能意味著中國(guó)在擺脫外部技術(shù)依賴方面比外界普遍預(yù)期的要更快推進(jìn)。源文地址：網(wǎng)頁(yè)鏈接